UV光氧废气处理设备采用紫外线光源对废气分子链进行净化的*技术，运用253.7纳米波段光切割、断链、燃烧、裂解废气分子链，改变分子结构，为*重处理；取185纳米波段光对废气分子进行催化氧化，使破坏后的分子或中子、原子以O3进行结合，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在催化氧化过程中，转变成低分子化合物CO2、H2O等，为第二重处理；再根据不同的废气成分配置7种以上相对应的惰性催化剂，催化剂采用蜂窝状金属网孔作为载体，全方位与光源接触，惰性催化剂在338纳米光源以下发生催化反应，放大10-30倍光源效果，使其与废气进行充分反应，缩短废气与光源接触时间，从而提高废气净化效率，催化剂还具有类似于植物光合作用，对废气进行净化效果，为第三重处理，通过三重处理后的废气其除臭*高可达99%以上。

UV光氧废气处理设备设计中还须重视吸尘罩的设置。如果吸尘罩设计的合理，使用较小的抽风量就可以有效低控制粉尘的逸散，反之，用很大的抽风量也不一定达到预期的效果。吸尘罩的设置须遵循以下基本原则：

1)吸尘罩的设置，要按防止粉尘逸散到周围环境空间的原则确定，吸尘罩的吸气宜尽可能利用污染气流的运动作用。

2)吸尘罩不应设在气流含尘高的部位或飞溅区内，以免吸入大量粉料。

3)吸尘罩需要有一定的空间，以缓冲气流减小正压，与接管连接时收缩角不宜大于60°。

4)吸尘罩应尽可能将尘源点包围起来，使粉尘的扩散限制在*小的范围，便于捕集粉尘，一定程度上减小抽风量。

5)吸尘罩应力求结构简单，便于安装，且不影响工艺操作和维护管理。

采用uv光氧除尘器工艺对单一的有机废气物质或恶臭气体物质严格控制进气浓度、气量及其他条件时，uv光氧除尘器功率充足的情况下，测得uv光氧除尘器效率均可达到99%以上。但实际运用过程中，由于受到各种因素或者条件的影响，如废气成分复杂，废气浓度不稳定或者不能达到uv光氧除尘器*适中的范围（浓度过高或过低均会影响其净化去除率），风量、气压、温度、湿度等环境条件不稳定或者达不到uv光氧除尘器的要求，废气预处理做的不够理想，后续排放管道没有留够充足的氧化反应管道等等，导致uv光氧除尘器的净化效率参差不齐，差异很大，甚至在满足所有外在条件的基础上，处理不同成分的废气其净化效率也有差别。所以很难单纯的去界定一套uv光氧除尘器设备对废气的净化去除率，我们只能说尽量的去调整影响uv光氧除尘器设备净化率的各种因素，尽量的去提高uv光氧除尘器工艺的净化效率。在各种因素都比较适宜的条件下，uv光氧除尘器系统在实际运用中是可以达到90%以上的，甚至某些成分的废气其净化效率可以达到95%以上甚至更高。